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欧阳钟灿院士:无屏幕和三维是下一代显示技术方向

2020-07-21 18:31      电子信息网


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“下一代显示技术新方向不断涌现,光场显示、激光全息显示等变革性技术将推动三维立体显示发展,全球处于产业化应用前的研发阶段。”中国科学院院士、中国科学院理论物理研究所战略发展委员会主任欧阳钟灿在2020中国(上海)国际显示产业高峰论坛(简称DIC Forum)发表演讲时表示。

纵观全球新型显示技术发展态势,TFT-LCD技术是目前各类显示技术中最成熟、产业链最完整的主流技术。近年来TFT-LCD技术飞速发展,无论是对比度、分辨率、色域都得到了极大的突破,多项显示参数接近人眼的视觉极限。

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OLED技术方面,目前全球已量产的OLED显示技术均为蒸镀OLED显示技术,技术最为强大的是韩国,其中大尺寸蒸镀OLED全球仅LGD一家。柔性AMOLED技术最大的技术难点是防水、防氧封装,大尺寸不能代替没有防水、防氧的液晶显示器。

印刷显示技术中,印刷OLED目前日本JOLED已实现少量出货。欧阳钟灿院士表示,我国与韩国并跑,未来2到3年有望投入量产。印刷QLED全球尚未实现量产,我国的TCL华星、京东方以及韩国三星显示、LGD均在积极研发,未来5年有望量产。

量子点显示技术目前开发的重点围绕于面向下一代的量子点电致发光显示极速(QLED)。据欧阳钟灿院士介绍,京东方集团中央研究院关于高分辨率、全彩量子点发光二极管(QLED InP-QLE)的研究取得重大突破,实现了分辨率500ppi、色域114%,外量子效率13.8%。

激光显示技术路线主要分为激光荧光粉光源和三基色纯激光光源,荧光粉光源主要特点在于结构简单、光效低、色域小、寿命短,三基色激光显示的发展方向主要为大色域、高光效、高亮度、长寿命。

Micro LED技术,其晶片表面必须制作成如同LED显示器般至阵列结构,且每一个点像素必须可控制、单独驱动点亮。

欧阳钟灿院士强调,未来显示技术发展方向主要是两个,一是基于空间三维物体重构的光场显示技术,主要包括投影阵列光场显示、光场扫描显示、集成成像光场显示、平板光场显示、近眼光场显示和悬浮光场显示以及LED曲面大屏显示;二是全息投影显示,把图像的低频部分(占图像的大部分光能)用全息技术来投影,而高频部分(代表图像的细节部分,但只占整个图像光能的小部分),则用传统的“像素到像素”方式来投影。这种做法既有效避开空间光调制器分辨率较低的技术难题,又能大大提高光能的利用效率。利用这种杂化全齐微投影技术,光效率有望达到100流明/瓦,比当前的投影技术提高近一个数量级,能为解决当前移动投影仪光效率低下的难题提供一个非常有效的方案。

目前,全球平板显示产业的国际竞争日益激烈,日本、韩国等显示产业大国陆续关闭并转移LCD产线并加紧推动OLED、QLED等新型显示技术,抢占产业发展先机。与此同时,下一代显示技术新方向不断涌现,以印刷显示、激光显示、Micro LED显示为主的下一代显示方向逐渐明确,光场显示、激光全息显示等变革性技术将推动三维立体显示发展,全球处于产业化应用前的研发阶段。

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