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住友化学新建大阪工厂2022年完工,强化EUV等尖端半导体光刻胶研发

2020-06-24 10:35      电子信息网



CINNO Research产业资讯,住友化学为强化EUV(极紫外光刻)等尖端工艺半导体光刻胶的研发、评测,在大阪工厂(大阪市此花区)建设新厂房的同时,导入新型评测设备。目标是在2022年度上半年完成建设。

根据日媒电波新闻报道,光刻胶是半导体生产工艺中用于形成图案的光敏树脂。迄今为止,住友化学在设计和量产高性能光刻胶原料技术的基础上,优化生产、研发、销售部门,大阪工厂形成了及时响应客户的体制,扩大了光刻胶业务。


为满足强劲的需求,住友化学于2019年在大阪工厂新建厂房,以扩大其全球最高市场份额ArF(氟化氩)浸润式光刻胶的产能。

今后,随着AI(人工智能)技术的发展、新一代高速通信规格5G的商用普及,先进半导体的需求将会增加。在该领域,随着EUV曝光技术成为主流,与其适用的浸润式光刻胶的需求也不断扩大。

住友化学运用积累的丰富经验和独特的理念提高设计能力,大幅度提高了EUV光刻胶的性能,且计划在不久的将来实现量产。

此次提高产能,是住友化学巩固中长期事业(目标是进一步发展光刻胶业务)基础的一环。通过建设无尘室、导入新的曝光机,提高EUV光刻胶等的研发效率,强化快速响应客户、保证质量的体制。住友化学未来将考虑在包括EUV在内的最尖端光刻胶领域进一步扩大投资,以适应未来的业务拓展需求。


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